Polarisationssystem

Die Erfindung betrifft ein Polarisationssystem (1) aufweisend folgende Merkmale: - ein erstes Substrat (3) aus einem ersten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten ersten Schichtsystem (3a) und zumindest ein in einem Strahlengang (2) nachfolgendes zweites Substrat (4) aus einem zweiten Subst...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	BERNITZKI, HELMUT, KLAUS, MICHAEL, LAUX, SVEN, SCHUHMANN, UWE
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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