Polarisationssystem
Die Erfindung betrifft ein Polarisationssystem (1) aufweisend folgende Merkmale: - ein erstes Substrat (3) aus einem ersten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten ersten Schichtsystem (3a) und zumindest ein in einem Strahlengang (2) nachfolgendes zweites Substrat (4) aus einem zweiten Subst...
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| Format: | Patent |
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| creator | BERNITZKI, HELMUT KLAUS, MICHAEL LAUX, SVEN SCHUHMANN, UWE |
| description | Die Erfindung betrifft ein Polarisationssystem (1) aufweisend folgende Merkmale: - ein erstes Substrat (3) aus einem ersten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten ersten Schichtsystem (3a) und zumindest ein in einem Strahlengang (2) nachfolgendes zweites Substrat (4) aus einem zweiten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten zweiten Schichtsystem (4a); - wobei das erste und zweite Schichtsystem einen auf dem Substrat aufgebrachten ersten Stapel (3b, 4b) und einen auf dem ersten Stapel aufgebrachten zweiten Stapel (3c, 4c) umfassen; - wobei der erste Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden oxidischen Schichten umfasst; - wobei der zweite Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden fluoridischen Schichten umfasst; - wobei das zumindest erste und zweite Schichtsystem (3a, 4a) einen den Strahlengang (2) bildenden unpolarisierten Strahl (2a), der in einem Winkel Φ, der größer als der Brewsterwinkel für die eingesetzten Substratmaterialien ist, auf das Schichtsystem (3a, 4a) trifft, in eine erste die Substrate transmittierende und polarisierte erste Komponente (2d) und eine an dem Schichtsystem (3a, 4a) reflektierte und polarisierte zweite Komponente (2e) teilen; - wobei das erste und zweite Schichtsystem (3a, 4a) in ihrer Anzahl an oxidischen und fluoridischen Schichten derart ausgelegt sind, dass der Anteil der reflektierten und polarisierten zweiten Komponente (2e) am den Strahlengang bildenden unpolarisierten Strahl (2a) zumindest 90% beträgt.
A polarization system having a first substrate with a first layer system, and at least one second substrate with a second layer system disposed downstream in a beam path from the first substrate formed by a beam source. The first and second layer systems have a first stack on the substrate and a second stack on the first stack; wherein the first stack comprises an alternating sequence of high and low refractive index oxidic layers; the second stack having an alternating sequence of high and low refractive index fluoridic layers. The first layer system splits an unpolarized beam and the second layer system splits the beam again such that the proportion of a polarized beam downstream of the second layer system is greater than that downstream of the first layer system. |
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A polarization system having a first substrate with a first layer system, and at least one second substrate with a second layer system disposed downstream in a beam path from the first substrate formed by a beam source. The first and second layer systems have a first stack on the substrate and a second stack on the first stack; wherein the first stack comprises an alternating sequence of high and low refractive index oxidic layers; the second stack having an alternating sequence of high and low refractive index fluoridic layers. The first layer system splits an unpolarized beam and the second layer system splits the beam again such that the proportion of a polarized beam downstream of the second layer system is greater than that downstream of the first layer system.</description><language>ger</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2015</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20150611&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102013020353A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76318</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20150611&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102013020353A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>BERNITZKI, HELMUT</creatorcontrib><creatorcontrib>KLAUS, MICHAEL</creatorcontrib><creatorcontrib>LAUX, SVEN</creatorcontrib><creatorcontrib>SCHUHMANN, UWE</creatorcontrib><title>Polarisationssystem</title><description>Die Erfindung betrifft ein Polarisationssystem (1) aufweisend folgende Merkmale: - ein erstes Substrat (3) aus einem ersten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten ersten Schichtsystem (3a) und zumindest ein in einem Strahlengang (2) nachfolgendes zweites Substrat (4) aus einem zweiten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten zweiten Schichtsystem (4a); - wobei das erste und zweite Schichtsystem einen auf dem Substrat aufgebrachten ersten Stapel (3b, 4b) und einen auf dem ersten Stapel aufgebrachten zweiten Stapel (3c, 4c) umfassen; - wobei der erste Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden oxidischen Schichten umfasst; - wobei der zweite Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden fluoridischen Schichten umfasst; - wobei das zumindest erste und zweite Schichtsystem (3a, 4a) einen den Strahlengang (2) bildenden unpolarisierten Strahl (2a), der in einem Winkel Φ, der größer als der Brewsterwinkel für die eingesetzten Substratmaterialien ist, auf das Schichtsystem (3a, 4a) trifft, in eine erste die Substrate transmittierende und polarisierte erste Komponente (2d) und eine an dem Schichtsystem (3a, 4a) reflektierte und polarisierte zweite Komponente (2e) teilen; - wobei das erste und zweite Schichtsystem (3a, 4a) in ihrer Anzahl an oxidischen und fluoridischen Schichten derart ausgelegt sind, dass der Anteil der reflektierten und polarisierten zweiten Komponente (2e) am den Strahlengang bildenden unpolarisierten Strahl (2a) zumindest 90% beträgt.
A polarization system having a first substrate with a first layer system, and at least one second substrate with a second layer system disposed downstream in a beam path from the first substrate formed by a beam source. The first and second layer systems have a first stack on the substrate and a second stack on the first stack; wherein the first stack comprises an alternating sequence of high and low refractive index oxidic layers; the second stack having an alternating sequence of high and low refractive index fluoridic layers. The first layer system splits an unpolarized beam and the second layer system splits the beam again such that the proportion of a polarized beam downstream of the second layer system is greater than that downstream of the first layer system.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2015</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZBAOyM9JLMosTizJzM8rLq4sLknN5WFgTUvMKU7lhdLcDKpuriHOHrqpBfnxqcUFicmpeakl8S6uhgZGBobGQMLY1NjR0JhYdQBfgSJp</recordid><startdate>20150611</startdate><enddate>20150611</enddate><creator>BERNITZKI, HELMUT</creator><creator>KLAUS, MICHAEL</creator><creator>LAUX, SVEN</creator><creator>SCHUHMANN, UWE</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20150611</creationdate><title>Polarisationssystem</title><author>BERNITZKI, HELMUT ; KLAUS, MICHAEL ; LAUX, SVEN ; SCHUHMANN, UWE</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102013020353A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2015</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>BERNITZKI, HELMUT</creatorcontrib><creatorcontrib>KLAUS, MICHAEL</creatorcontrib><creatorcontrib>LAUX, SVEN</creatorcontrib><creatorcontrib>SCHUHMANN, UWE</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>BERNITZKI, HELMUT</au><au>KLAUS, MICHAEL</au><au>LAUX, SVEN</au><au>SCHUHMANN, UWE</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Polarisationssystem</title><date>2015-06-11</date><risdate>2015</risdate><abstract>Die Erfindung betrifft ein Polarisationssystem (1) aufweisend folgende Merkmale: - ein erstes Substrat (3) aus einem ersten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten ersten Schichtsystem (3a) und zumindest ein in einem Strahlengang (2) nachfolgendes zweites Substrat (4) aus einem zweiten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten zweiten Schichtsystem (4a); - wobei das erste und zweite Schichtsystem einen auf dem Substrat aufgebrachten ersten Stapel (3b, 4b) und einen auf dem ersten Stapel aufgebrachten zweiten Stapel (3c, 4c) umfassen; - wobei der erste Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden oxidischen Schichten umfasst; - wobei der zweite Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden fluoridischen Schichten umfasst; - wobei das zumindest erste und zweite Schichtsystem (3a, 4a) einen den Strahlengang (2) bildenden unpolarisierten Strahl (2a), der in einem Winkel Φ, der größer als der Brewsterwinkel für die eingesetzten Substratmaterialien ist, auf das Schichtsystem (3a, 4a) trifft, in eine erste die Substrate transmittierende und polarisierte erste Komponente (2d) und eine an dem Schichtsystem (3a, 4a) reflektierte und polarisierte zweite Komponente (2e) teilen; - wobei das erste und zweite Schichtsystem (3a, 4a) in ihrer Anzahl an oxidischen und fluoridischen Schichten derart ausgelegt sind, dass der Anteil der reflektierten und polarisierten zweiten Komponente (2e) am den Strahlengang bildenden unpolarisierten Strahl (2a) zumindest 90% beträgt.
A polarization system having a first substrate with a first layer system, and at least one second substrate with a second layer system disposed downstream in a beam path from the first substrate formed by a beam source. The first and second layer systems have a first stack on the substrate and a second stack on the first stack; wherein the first stack comprises an alternating sequence of high and low refractive index oxidic layers; the second stack having an alternating sequence of high and low refractive index fluoridic layers. The first layer system splits an unpolarized beam and the second layer system splits the beam again such that the proportion of a polarized beam downstream of the second layer system is greater than that downstream of the first layer system.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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