Verfahren und Vorrichtungen zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen

Verfahren zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen, umfassend: Bestrahlen einer Maske (15) zum Erzeugen eines Musters von Bereichen, wobei in den Bereichen eine Leistungsdichte über einem vorgegebenen Schwellenwert liegt, und dreidimensionales Bewegen zumindest eines Teils des Musters von Bereic...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BRUNNER, ROBERT, MAASS, JACQUELINE, GATTO, ALEXANDRE, THOMAE, DANIEL, SANDFUCHS, OLIVER
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Verfahren zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen, umfassend: Bestrahlen einer Maske (15) zum Erzeugen eines Musters von Bereichen, wobei in den Bereichen eine Leistungsdichte über einem vorgegebenen Schwellenwert liegt, und dreidimensionales Bewegen zumindest eines Teils des Musters von Bereichen in einem fotosensitiven Material relativ zu dem fotosensitiven Material (17), um eine Struktur in das fotosensitive Material zu schreiben. The method involves irradiating (20) a mask (15) for producing pattern of high-energy region (16). One portion of pattern of high-energy region is moved (21) relative to the photo-sensitive material (17), in order to write a structure into the photo-sensitive material. The photosensitive material is then developed (22) by using suitable chemicals to create a three-dimensional structure. An independent claim is included for device for manufacturing three-dimensional structure.