Dummy-Strukturen und Verfahren

Es werden ein Halbleiterbauelement (200) und ein Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements (200) offenbart. Das Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements (200) weist auf: Ausbilden einer Materialschicht auf einem Substrat (230), Strukturieren eines ersten halbglobalen Gebiets (...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KAEMMER, KERSTIN, ROTHENHAEUSSER, STEFFEN, HUEBINGER, FRANK
Format: Patent
Sprache:ger
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