Vorrichtung zum Ausrichten eines Substrates und einer Maske

Vorrichtung zum Ausrichten eines Substrats (4) und einer Maske (8) zueinander mit einem Substratträger (2) zur Aufnahme des Substrats (4) in einer Substrataufnahmeebene, mit einem Ausrichtungsmittel zur Verschiebung des Substratträgers (2) in alle Richtungen des dreidimensionalen Raumes sowie zum Dr...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Willkommen, Udo, Gross, Harald, Zschieschang, Erwin
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Vorrichtung zum Ausrichten eines Substrats (4) und einer Maske (8) zueinander mit einem Substratträger (2) zur Aufnahme des Substrats (4) in einer Substrataufnahmeebene, mit einem Ausrichtungsmittel zur Verschiebung des Substratträgers (2) in alle Richtungen des dreidimensionalen Raumes sowie zum Drehen des Substratträgers um eine Achse senkrecht zur Substrataufnahmeebene und mit einem Maskenträger (6), wobei der Maskenträger (6) die Form einer hohlen Halbkugel zur Aufnahme der Maske (8) auf der Grundfläche (7) der hohlen Halbkugel annimmt, wobei der Maskenträger (6) in einer Ausgangsposition mit der Hemisphäre der hohlen Halbkugel auf drei Stützelementen (5) aufliegt und der Maskenträger (6) um den Mittelpunkt der Grundfläche (7) in alle Richtungen drehbar gelagert ist, und wobei der Substratträger (2) innerhalb der hohlen Halbkugel des Maskenträgers (6) angeordnet ist, so dass der Substratträger (2) bei einer Verschiebung des Substratträgers (2) in vertikaler Richtung mit der Grundfläche (7) des Maskenträgers (6) oder mit einer in der Grundfläche (7) des Maskenträgers (6) angeordneten Maske (8) in Kontakt bringbar ist, der Maskenträger (6) dadurch anhebbar ist und sich dabei parallel zum Substratträger (2) ausrichtet.