Continuous heat treatment method of substrate for solar cell, involves operating transport rollers in groups such that each group of rollers has different substrate transport speeds and/or substrate transport velocity gradients
The method involves transporting substrates (3) by a substrate transport system of continuous heat treatment plant (1). The substrates are rested on transport rollers (2) of the substrate transport system throughout the passage of the substrates in the heat treatment plant. The transport rollers are...
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creator | FRIGGE, STEFFEN STAUDE, MIRKO MEYER, MIRKO |
description | The method involves transporting substrates (3) by a substrate transport system of continuous heat treatment plant (1). The substrates are rested on transport rollers (2) of the substrate transport system throughout the passage of the substrates in the heat treatment plant. The transport rollers are operated in groups (A-C), where each group of rollers has different substrate transport speeds and/or substrate transport velocity gradients. An independent claim is included for continuous heat treatment plant of substrate.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren, bei welchem auf Transportelementen aufliegende Substrate zu deren Wärmebehandlung kontinuierlich durch eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage transportiert werden, und eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage, durch welche auf Transportelementen aufliegende Substrate zu deren Wärmebehandlung kontinuierlich transportiert werden. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage und ein entsprechendes Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren vorzuschlagen, die eine flexible Beeinflussung der Temperatur-Zeit-Charakteristik der Wärmebehandlung der Substrate mit geringem anlagentechnischen Aufwand ermöglichen. Die Aufgabe wird durch ein Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren der eingangs definierten Gattung gelöst, das dadurch spezifiziert ist, dass die Substrate während ihres Transports durch die Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage durch wenigstens zwei Substrattransportabschnitte transportiert werden, in welchen durch die Transportrollen voneinander verschiedene Substrattransportgeschwindigkeiten und/oder Substrattransportgeschwindigkeitsverläufe vorgesehen werden. Die Aufgabe der Erfindung wird auch durch eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage der anfangs definierten Gattung gelöst, bei welcher die Substrattransportgeschwindigkeit und/oder der Substrattransportgeschwindigkeitsverlauf in wenigstens zwei Substrattransportabschnitten der Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage durch die Transportrollen voneinander verschieden einstellbar ist. |
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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren, bei welchem auf Transportelementen aufliegende Substrate zu deren Wärmebehandlung kontinuierlich durch eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage transportiert werden, und eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage, durch welche auf Transportelementen aufliegende Substrate zu deren Wärmebehandlung kontinuierlich transportiert werden. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage und ein entsprechendes Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren vorzuschlagen, die eine flexible Beeinflussung der Temperatur-Zeit-Charakteristik der Wärmebehandlung der Substrate mit geringem anlagentechnischen Aufwand ermöglichen. Die Aufgabe wird durch ein Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren der eingangs definierten Gattung gelöst, das dadurch spezifiziert ist, dass die Substrate während ihres Transports durch die Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage durch wenigstens zwei Substrattransportabschnitte transportiert werden, in welchen durch die Transportrollen voneinander verschiedene Substrattransportgeschwindigkeiten und/oder Substrattransportgeschwindigkeitsverläufe vorgesehen werden. Die Aufgabe der Erfindung wird auch durch eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage der anfangs definierten Gattung gelöst, bei welcher die Substrattransportgeschwindigkeit und/oder der Substrattransportgeschwindigkeitsverlauf in wenigstens zwei Substrattransportabschnitten der Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage durch die Transportrollen voneinander verschieden einstellbar ist.</description><language>eng ; ger</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; BLASTING ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; FURNACES ; FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL ; HEATING ; KILNS ; LIGHTING ; MECHANICAL ENGINEERING ; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS ; OVENS ; RETORTS ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; WEAPONS</subject><creationdate>2012</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20121004&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102011001789A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76294</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20121004&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102011001789A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>FRIGGE, STEFFEN</creatorcontrib><creatorcontrib>STAUDE, MIRKO</creatorcontrib><creatorcontrib>MEYER, MIRKO</creatorcontrib><title>Continuous heat treatment method of substrate for solar cell, involves operating transport rollers in groups such that each group of rollers has different substrate transport speeds and/or substrate transport velocity gradients</title><description>The method involves transporting substrates (3) by a substrate transport system of continuous heat treatment plant (1). The substrates are rested on transport rollers (2) of the substrate transport system throughout the passage of the substrates in the heat treatment plant. The transport rollers are operated in groups (A-C), where each group of rollers has different substrate transport speeds and/or substrate transport velocity gradients. An independent claim is included for continuous heat treatment plant of substrate.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren, bei welchem auf Transportelementen aufliegende Substrate zu deren Wärmebehandlung kontinuierlich durch eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage transportiert werden, und eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage, durch welche auf Transportelementen aufliegende Substrate zu deren Wärmebehandlung kontinuierlich transportiert werden. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage und ein entsprechendes Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren vorzuschlagen, die eine flexible Beeinflussung der Temperatur-Zeit-Charakteristik der Wärmebehandlung der Substrate mit geringem anlagentechnischen Aufwand ermöglichen. 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Die Aufgabe der Erfindung wird auch durch eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage der anfangs definierten Gattung gelöst, bei welcher die Substrattransportgeschwindigkeit und/oder der Substrattransportgeschwindigkeitsverlauf in wenigstens zwei Substrattransportabschnitten der Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage durch die Transportrollen voneinander verschieden einstellbar ist.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>BLASTING</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>FURNACES</subject><subject>FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL</subject><subject>HEATING</subject><subject>KILNS</subject><subject>LIGHTING</subject><subject>MECHANICAL ENGINEERING</subject><subject>OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS</subject><subject>OVENS</subject><subject>RETORTS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>WEAPONS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2012</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjjFOBDEMRaehQMAd3NCBmEABlGhZxAHoV2bibCJl48j2jMR5uQgeBNqGgsa2rKf3_-nwueFmpc08K2RCAxOfB2oGB7LMETiBzu9qgkaQWEC5osBEtV5BaQvXhRS4kwOl7V2ATTuLgXCtJOoQ7IXnri6aMlj2GEK_vr9rwC-ZUSGWlEjWAsfYo1M7UVTAFm_WKn8QC1Wein24HWNxj54PJwmr0sXPPhsuX7Zvm9dr6rwj7ThRI9s9b8N4O4YwjuH-4fEp3P2X-wJNtXIy</recordid><startdate>20121004</startdate><enddate>20121004</enddate><creator>FRIGGE, STEFFEN</creator><creator>STAUDE, MIRKO</creator><creator>MEYER, MIRKO</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20121004</creationdate><title>Continuous heat treatment method of substrate for solar cell, involves operating transport rollers in groups such that each group of rollers has different substrate transport speeds and/or substrate transport velocity gradients</title><author>FRIGGE, STEFFEN ; STAUDE, MIRKO ; MEYER, MIRKO</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102011001789A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; ger</language><creationdate>2012</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>BLASTING</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>FURNACES</topic><topic>FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL</topic><topic>HEATING</topic><topic>KILNS</topic><topic>LIGHTING</topic><topic>MECHANICAL ENGINEERING</topic><topic>OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS</topic><topic>OVENS</topic><topic>RETORTS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>WEAPONS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>FRIGGE, STEFFEN</creatorcontrib><creatorcontrib>STAUDE, MIRKO</creatorcontrib><creatorcontrib>MEYER, MIRKO</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>FRIGGE, STEFFEN</au><au>STAUDE, MIRKO</au><au>MEYER, MIRKO</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Continuous heat treatment method of substrate for solar cell, involves operating transport rollers in groups such that each group of rollers has different substrate transport speeds and/or substrate transport velocity gradients</title><date>2012-10-04</date><risdate>2012</risdate><abstract>The method involves transporting substrates (3) by a substrate transport system of continuous heat treatment plant (1). The substrates are rested on transport rollers (2) of the substrate transport system throughout the passage of the substrates in the heat treatment plant. The transport rollers are operated in groups (A-C), where each group of rollers has different substrate transport speeds and/or substrate transport velocity gradients. An independent claim is included for continuous heat treatment plant of substrate.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren, bei welchem auf Transportelementen aufliegende Substrate zu deren Wärmebehandlung kontinuierlich durch eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage transportiert werden, und eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage, durch welche auf Transportelementen aufliegende Substrate zu deren Wärmebehandlung kontinuierlich transportiert werden. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage und ein entsprechendes Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren vorzuschlagen, die eine flexible Beeinflussung der Temperatur-Zeit-Charakteristik der Wärmebehandlung der Substrate mit geringem anlagentechnischen Aufwand ermöglichen. Die Aufgabe wird durch ein Durchlauf-Substratwärmebehandlungsverfahren der eingangs definierten Gattung gelöst, das dadurch spezifiziert ist, dass die Substrate während ihres Transports durch die Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage durch wenigstens zwei Substrattransportabschnitte transportiert werden, in welchen durch die Transportrollen voneinander verschiedene Substrattransportgeschwindigkeiten und/oder Substrattransportgeschwindigkeitsverläufe vorgesehen werden. Die Aufgabe der Erfindung wird auch durch eine Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage der anfangs definierten Gattung gelöst, bei welcher die Substrattransportgeschwindigkeit und/oder der Substrattransportgeschwindigkeitsverlauf in wenigstens zwei Substrattransportabschnitten der Durchlauf-Substratwärmebehandlungsanlage durch die Transportrollen voneinander verschieden einstellbar ist.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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