Schreibverfahren mit geladenem Partikelstrahl, Verfahren zum Erfassen der Position einer Referenzmarkierung für ein Beschreiben mit geladenem Partikelstrahl, und eine Schreibvorrichtung mit geladenem Partikelstrahl

Schreibverfahren mit geladenem Partikelstrahl, umfassend:Bewegen eines Gestells (11) in X- und Y-Richtung,Abtasten einer am Gestell platzierten Probe (M) mit einem durch einen optischen Hebelsensor (14) über einer Referenzmarkierung (FM'), die Stufen aufweist und an der am Gestell (11) platzier...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Yoshitake, Shusuke
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES MATERIALS THEREFOR MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES NANOTECHNOLOGY ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES TRANSPORTING
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