Schreibverfahren mit geladenem Partikelstrahl, Verfahren zum Erfassen der Position einer Referenzmarkierung für ein Beschreiben mit geladenem Partikelstrahl, und eine Schreibvorrichtung mit geladenem Partikelstrahl

Schreibverfahren mit geladenem Partikelstrahl, umfassend:Bewegen eines Gestells (11) in X- und Y-Richtung,Abtasten einer am Gestell platzierten Probe (M) mit einem durch einen optischen Hebelsensor (14) über einer Referenzmarkierung (FM'), die Stufen aufweist und an der am Gestell (11) platzierten Probe (M) ausgebildet ist, emittierten Lichts,wobei eine lichtemittierende Sektion (14a) des optischen Hebelsensors Licht emittiert, und eine lichtempfangende Sektion (14b) dann ein von der Probe (M) reflektiertes Licht empfängt,Erfassen einer Veränderung des Winkels des von der Probe (M) reflektierten Lichts,Erfassen von Positions-Koordinaten der Position des Gestells (11), an dem die Probe (M) platziert ist, über einen Gestellpositionserfasser (36) wenn der Winkel des reflektierten Lichts verändert wird,Berechnen der Position der Referenzmarkierung (FM'), die an der am Gestell (11) platzierten Probe (M) ausgebildet ist auf der Basis der erfassten Positionskoordinaten,Spezifizieren einer Beziehung zwischen einer vorbestimmten Position eines in der Probe (M) gelegenen Defekts (D) auf der Basis der berechneten Position der Referenzmarkierung (FM'), undBestimmen der Position eines Abschnitts, an dem ein Beschreiben auszuführen ist, auf der Basis einer Beziehung mit der vorbestimmten Position des Defekts (D),Verschieben der Position eines zu schreibenden Musters, um sicherzustellen, dass der Defekt (D) mit dem einem Ätzprozess unterworfenen Absorber (204) abgedeckt wird. The reference mark has steps and is formed on a sample. A stage moves in X and Y directions. The sample M is placed on the stage. An optical lever type height position sensor emits light to detect the reference mark FM′ by the stage being scanned. The spot position of light reflected on the sample is detected in position sensitive detector. The X and Y coordinates of the position of the stage positioned when the spot position of the reflected light is changed is detected. The detected X and Y coordinates are regarded as the position C of the reference mark FM′. The position of a phase defect D located in the sample M is specified on the basis of the position C of the reference mark FM′. The position of a portion on which writing is to be performed is determined on the basis of a relationship with the specified position of the phase defect D.