Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target und Vakuumbeschichtungsanlage
Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target (3), umfassend ein Endblockgehäuse (21, 41) mit einem Drehlager (22, 42), wobei das Endblockgehäuse (21, 41) an seiner Außenseite zur Anbringung an einer Stützeinrichtung (11) ausgebildet ist, und das Drehlager (22, 42) an seinem von...
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| Format: | Patent |
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| creator | SEYFERT, ULF GROSER, GOETZ HEINRICH, HANS-JUERGEN HAEHNE, SVEN |
| description | Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target (3), umfassend ein Endblockgehäuse (21, 41) mit einem Drehlager (22, 42), wobei das Endblockgehäuse (21, 41) an seiner Außenseite zur Anbringung an einer Stützeinrichtung (11) ausgebildet ist, und das Drehlager (22, 42) an seinem von außerhalb des Endblockgehäuses (21, 41) zugänglichen Ende zur Verbindung mit einem rotierenden Target (3) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Anbringung des Endblockgehäuses (21, 41) an der Stützeinrichtung (11) beweglich so ausgebildet ist, dass sie eine Bewegung des Endblockgehäuses (21, 41) zumindest parallel zur Drehachse des Drehlagers (22, 42) ermöglicht.
An end block for a magnetron device having a rotatable target comprises an end block housing having a pivot bearing. The end block housing is adapted on its outer side for attachment on a support unit, and the pivot bearing is adapted on an end that is accessible from outside the end block housing, for connection to the rotatable target. The end block housing is movably attached on the support unit. A vacuum coating apparatus has a vacuum chamber, a magnetron device situated in the vacuum chamber, and a rotatable target rotatably mounted on at least one such end block. |
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An end block for a magnetron device having a rotatable target comprises an end block housing having a pivot bearing. The end block housing is adapted on its outer side for attachment on a support unit, and the pivot bearing is adapted on an end that is accessible from outside the end block housing, for connection to the rotatable target. The end block housing is movably attached on the support unit. A vacuum coating apparatus has a vacuum chamber, a magnetron device situated in the vacuum chamber, and a rotatable target rotatably mounted on at least one such end block.</description><language>ger</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRICITY ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2012</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20120119&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102008033902B4$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20120119&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102008033902B4$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SEYFERT, ULF</creatorcontrib><creatorcontrib>GROSER, GOETZ</creatorcontrib><creatorcontrib>HEINRICH, HANS-JUERGEN</creatorcontrib><creatorcontrib>HAEHNE, SVEN</creatorcontrib><title>Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target und Vakuumbeschichtungsanlage</title><description>Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target (3), umfassend ein Endblockgehäuse (21, 41) mit einem Drehlager (22, 42), wobei das Endblockgehäuse (21, 41) an seiner Außenseite zur Anbringung an einer Stützeinrichtung (11) ausgebildet ist, und das Drehlager (22, 42) an seinem von außerhalb des Endblockgehäuses (21, 41) zugänglichen Ende zur Verbindung mit einem rotierenden Target (3) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Anbringung des Endblockgehäuses (21, 41) an der Stützeinrichtung (11) beweglich so ausgebildet ist, dass sie eine Bewegung des Endblockgehäuses (21, 41) zumindest parallel zur Drehachse des Drehlagers (22, 42) ermöglicht.
An end block for a magnetron device having a rotatable target comprises an end block housing having a pivot bearing. The end block housing is adapted on its outer side for attachment on a support unit, and the pivot bearing is adapted on an end that is accessible from outside the end block housing, for connection to the rotatable target. The end block housing is movably attached on the support unit. A vacuum coating apparatus has a vacuum chamber, a magnetron device situated in the vacuum chamber, and a rotatable target rotatably mounted on at least one such end block.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2012</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjTsOwjAQBdNQIOAO21AimYSCtEAQDV1EGzb2xrESryN_bkfHxYgQB6B6xczoLbNnxaodnRyge788kGGCO2qm6B0jO684sQZr4pdZ8C4a8sSKGGr0miIkVvDAISXbUpC9kX2cm4A8oqZ1tuhwDLT57SrbXqv6fNvR5BoKE0qaz5pLtRe5EEdRFKXIT4fiX-8DjLtAYg</recordid><startdate>20120119</startdate><enddate>20120119</enddate><creator>SEYFERT, ULF</creator><creator>GROSER, GOETZ</creator><creator>HEINRICH, HANS-JUERGEN</creator><creator>HAEHNE, SVEN</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20120119</creationdate><title>Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target und Vakuumbeschichtungsanlage</title><author>SEYFERT, ULF ; GROSER, GOETZ ; HEINRICH, HANS-JUERGEN ; HAEHNE, SVEN</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102008033902B43</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2012</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SEYFERT, ULF</creatorcontrib><creatorcontrib>GROSER, GOETZ</creatorcontrib><creatorcontrib>HEINRICH, HANS-JUERGEN</creatorcontrib><creatorcontrib>HAEHNE, SVEN</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SEYFERT, ULF</au><au>GROSER, GOETZ</au><au>HEINRICH, HANS-JUERGEN</au><au>HAEHNE, SVEN</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target und Vakuumbeschichtungsanlage</title><date>2012-01-19</date><risdate>2012</risdate><abstract>Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target (3), umfassend ein Endblockgehäuse (21, 41) mit einem Drehlager (22, 42), wobei das Endblockgehäuse (21, 41) an seiner Außenseite zur Anbringung an einer Stützeinrichtung (11) ausgebildet ist, und das Drehlager (22, 42) an seinem von außerhalb des Endblockgehäuses (21, 41) zugänglichen Ende zur Verbindung mit einem rotierenden Target (3) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Anbringung des Endblockgehäuses (21, 41) an der Stützeinrichtung (11) beweglich so ausgebildet ist, dass sie eine Bewegung des Endblockgehäuses (21, 41) zumindest parallel zur Drehachse des Drehlagers (22, 42) ermöglicht.
An end block for a magnetron device having a rotatable target comprises an end block housing having a pivot bearing. The end block housing is adapted on its outer side for attachment on a support unit, and the pivot bearing is adapted on an end that is accessible from outside the end block housing, for connection to the rotatable target. The end block housing is movably attached on the support unit. A vacuum coating apparatus has a vacuum chamber, a magnetron device situated in the vacuum chamber, and a rotatable target rotatably mounted on at least one such end block.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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