Verfahren zur Ermittlung lithographisch relevanter Maskendefekte

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Maskeninspektion, bei dem die auf den untersuchten Masken ermittelten Defekte einer Klassifizierung hinsichtlich ihrer lithographischen Relevanz im Waferbelichtungsprozess unterzogen werden. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Ermittlung litho...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	SCHMID, RAINER, ZIBOLD, AXEL
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MATERIALS THEREFOR MEASURING ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TESTING
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