Vorrichtung und Verfahren zur Verbesserung der Messgenauigkeit bei der Bestimmung von Strukturdaten

Es ist ein Verfahren und eine Vorrichtung offenbart, womit eine Verbesserung der Messgenauigkeit bei der Bestimmung von Strukturdaten ermöglicht ist. Es ist eine erste Detektoreinheit (15a) vorgesehen, die das von auf dem mikroskopischen Bauteil (2) aufgebrachten Strukturen reflektierte oder transmi...

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Hauptverfasser: HEIDEN, MICHAEL, BOESSER, HANS-ARTUR, STEINBERG, WALTER
Format: Patent
Sprache:ger
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creator HEIDEN, MICHAEL
BOESSER, HANS-ARTUR
STEINBERG, WALTER
description Es ist ein Verfahren und eine Vorrichtung offenbart, womit eine Verbesserung der Messgenauigkeit bei der Bestimmung von Strukturdaten ermöglicht ist. Es ist eine erste Detektoreinheit (15a) vorgesehen, die das von auf dem mikroskopischen Bauteil (2) aufgebrachten Strukturen reflektierte oder transmittierte Licht empfängt. Ein zweiter Detektor (15b) ist vorgesehen, der die von der mindestens einen Lichtquelle ausgehende Beleuchtungsintensität aufzeichnet und einem Rechner (18), der aus dem von der ersten Detektoreinheit (15a) und dem zweiten Detektor (15) empfangenen Licht die Strukturdaten ermittelt.
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Es ist eine erste Detektoreinheit (15a) vorgesehen, die das von auf dem mikroskopischen Bauteil (2) aufgebrachten Strukturen reflektierte oder transmittierte Licht empfängt. Ein zweiter Detektor (15b) ist vorgesehen, der die von der mindestens einen Lichtquelle ausgehende Beleuchtungsintensität aufzeichnet und einem Rechner (18), der aus dem von der ersten Detektoreinheit (15a) und dem zweiten Detektor (15) empfangenen Licht die Strukturdaten ermittelt.</description><language>ger</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; MEASURING ; MEASURING ANGLES ; MEASURING AREAS ; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS ; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; TESTING</subject><creationdate>2006</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20061207&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102005025535A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20061207&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102005025535A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>HEIDEN, MICHAEL</creatorcontrib><creatorcontrib>BOESSER, HANS-ARTUR</creatorcontrib><creatorcontrib>STEINBERG, WALTER</creatorcontrib><title>Vorrichtung und Verfahren zur Verbesserung der Messgenauigkeit bei der Bestimmung von Strukturdaten</title><description>Es ist ein Verfahren und eine Vorrichtung offenbart, womit eine Verbesserung der Messgenauigkeit bei der Bestimmung von Strukturdaten ermöglicht ist. 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