Messanordnung zum optischen Monitoring von Beschichtungsprozessen
Messanordnung zum optischen Monitoring von Beschichtungsprozessen von Substraten in einer Vakuumkammer (1), welche zumindest - einen Lichtsender, - eine im Strahlengang (12) des Lichtsenders angeordnete Lichtempfängereinheit (10) und - einen in der Vakuumkammer (1) über einer Beschichtungsquelle bew...
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| creator | Zoeller, Alfons, Dipl.-Ing Hagedorn, Harro, Dipl.-Phys Klug, Werner, Dipl.-Ing |
| description | Messanordnung zum optischen Monitoring von Beschichtungsprozessen von Substraten in einer Vakuumkammer (1), welche zumindest - einen Lichtsender, - eine im Strahlengang (12) des Lichtsenders angeordnete Lichtempfängereinheit (10) und - einen in der Vakuumkammer (1) über einer Beschichtungsquelle bewegbaren Substrathalter (2) mit zumindest einem Substrat (3), mit welchem das zumindest eine Substrat (3) im Strahlengang (12) zwischen dem Lichtsender und der Lichtempfängereinheit (10) positionierbar ist, umfasst, wobei - der Lichtsender innerhalb der Vakuumkammer (1) zwischen dem Substrathalter (2) und einer Blende (5) angeordnet ist, - die Blende (5) unterhalb des Substrathalters (2) angeordnet ist, und - der Lichtsender auf der der Beschichtungsquelle abgewandten Seite der Blende (5) befestigt ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Blende (5) während der Beschichtung einen Messbereich über der Beschichtungsquelle abschattet und Fremdlichteinflüsse in der Meßanordnung durch die Beschichtungsquelle und/oder Plasma- oder Ionenquellen verhindert.
The invention concerns a measuring system for optical monitoring of coating processes in a vacuum chamber, in which the light source is arranged inside the vacuum chamber between the substrate carrier and a shutter is arranged beneath the substrate carrier and the light-receiving unit is arranged outside the vacuum chamber in the optical path of the light source. The substrate carrier is designed to accept at least one substrate, and it can move across the coasting source in the vacuum chamber, preferably revolving about an axis, whereby the substrate or substrates cross(es) the optical path between the light source and the light-receiving unit for transmission measurement, and the shutter shades a measurement area across the coating source. |
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The invention concerns a measuring system for optical monitoring of coating processes in a vacuum chamber, in which the light source is arranged inside the vacuum chamber between the substrate carrier and a shutter is arranged beneath the substrate carrier and the light-receiving unit is arranged outside the vacuum chamber in the optical path of the light source. The substrate carrier is designed to accept at least one substrate, and it can move across the coasting source in the vacuum chamber, preferably revolving about an axis, whereby the substrate or substrates cross(es) the optical path between the light source and the light-receiving unit for transmission measurement, and the shutter shades a measurement area across the coating source.</description><language>ger</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; MEASURING ; MEASURING ANGLES ; MEASURING AREAS ; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS ; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ; METALLURGY ; PHYSICS ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION ; TESTING</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160504&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102005010681B4$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76293</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160504&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102005010681B4$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Zoeller, Alfons, Dipl.-Ing</creatorcontrib><creatorcontrib>Hagedorn, Harro, Dipl.-Phys</creatorcontrib><creatorcontrib>Klug, Werner, Dipl.-Ing</creatorcontrib><title>Messanordnung zum optischen Monitoring von Beschichtungsprozessen</title><description>Messanordnung zum optischen Monitoring von Beschichtungsprozessen von Substraten in einer Vakuumkammer (1), welche zumindest - einen Lichtsender, - eine im Strahlengang (12) des Lichtsenders angeordnete Lichtempfängereinheit (10) und - einen in der Vakuumkammer (1) über einer Beschichtungsquelle bewegbaren Substrathalter (2) mit zumindest einem Substrat (3), mit welchem das zumindest eine Substrat (3) im Strahlengang (12) zwischen dem Lichtsender und der Lichtempfängereinheit (10) positionierbar ist, umfasst, wobei - der Lichtsender innerhalb der Vakuumkammer (1) zwischen dem Substrathalter (2) und einer Blende (5) angeordnet ist, - die Blende (5) unterhalb des Substrathalters (2) angeordnet ist, und - der Lichtsender auf der der Beschichtungsquelle abgewandten Seite der Blende (5) befestigt ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Blende (5) während der Beschichtung einen Messbereich über der Beschichtungsquelle abschattet und Fremdlichteinflüsse in der Meßanordnung durch die Beschichtungsquelle und/oder Plasma- oder Ionenquellen verhindert.
The invention concerns a measuring system for optical monitoring of coating processes in a vacuum chamber, in which the light source is arranged inside the vacuum chamber between the substrate carrier and a shutter is arranged beneath the substrate carrier and the light-receiving unit is arranged outside the vacuum chamber in the optical path of the light source. The substrate carrier is designed to accept at least one substrate, and it can move across the coasting source in the vacuum chamber, preferably revolving about an axis, whereby the substrate or substrates cross(es) the optical path between the light source and the light-receiving unit for transmission measurement, and the shutter shades a measurement area across the coating source.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>MEASURING</subject><subject>MEASURING ANGLES</subject><subject>MEASURING AREAS</subject><subject>MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS</subject><subject>MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2016</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHD0TS0uTszLL0rJK81LV6gqzVXILyjJLE7OSM1T8M3PyyzJL8oESpTl5yk4pQKFM5MzSoAqiwuK8quAWlPzeBhY0xJzilN5oTQ3g6qba4izh25qQX58anFBYnJqXmpJvIuroYGRgYGpgaGBmYWhk4kxseoALJU0cw</recordid><startdate>20160504</startdate><enddate>20160504</enddate><creator>Zoeller, Alfons, Dipl.-Ing</creator><creator>Hagedorn, Harro, Dipl.-Phys</creator><creator>Klug, Werner, Dipl.-Ing</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20160504</creationdate><title>Messanordnung zum optischen Monitoring von Beschichtungsprozessen</title><author>Zoeller, Alfons, Dipl.-Ing ; 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The invention concerns a measuring system for optical monitoring of coating processes in a vacuum chamber, in which the light source is arranged inside the vacuum chamber between the substrate carrier and a shutter is arranged beneath the substrate carrier and the light-receiving unit is arranged outside the vacuum chamber in the optical path of the light source. The substrate carrier is designed to accept at least one substrate, and it can move across the coasting source in the vacuum chamber, preferably revolving about an axis, whereby the substrate or substrates cross(es) the optical path between the light source and the light-receiving unit for transmission measurement, and the shutter shades a measurement area across the coating source.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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