Verfahren zum Bestimmen einer Matrix von Transmissionskreuzkoeffizienten bei einer optischen Näherungskorrektur von Maskenlayouts
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bestimmen einer Matrix von Transmissionskreuzkoeffizienten w für eine optische Modellbildung bei einer optischen Näherungskorrektur von Maskenlayouts 4. Hierbei werden in einem ersten Verfahrensschritt Fouriertransformierte einer Beleuchtungsapert...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bestimmen einer Matrix von Transmissionskreuzkoeffizienten w für eine optische Modellbildung bei einer optischen Näherungskorrektur von Maskenlayouts 4. Hierbei werden in einem ersten Verfahrensschritt Fouriertransformierte einer Beleuchtungsapertur a, einer Linsenapertur 1 und einer konjugiert komplexen Linsenapertur 1*, welche in Form von Bildmatrizen mit einem vorgegebenen Raster vorliegen, berechnet. In einem zweiten Verfahrensschritt werden Fouriertransformierte für die Transmissionskreuzkoeffizienten w aus den Fouriertransformierten der Beleuchtungsapertur a, der Linsenapertur 1 und der konjugiert komplexen Linsenapertur 1* mittels eines Faltungstheorems berechnet, um die Matrix der Fouriertransformierten der Transmissionskreuzkoeffizienten w zu erhalten. In einem weiteren Verfahrensschritt werden die Fouriertransformierten der Transmissionskreuzkoeffizienten w mittels einer schnellen Fouriertransformation rücktransportiert, um die Matrix der Transmissionskreuzkoeffizienten w für die optische Modellbildung bei der optischen Näherungskorrektur von Maskenlayouts 4 zu erhalten. Die Erfindung betrifft ferner eine optische Näherungskorrektur für eine Maskenstruktur eines Maskenlayouts 4, bei welcher die Matrix der Transmissionskreuzkoeffizienten w für die optische Modellbildung mit einem solchen Verfahren aufgestellt ist, sowie ein Maskenlayout 6 für eine Lithografiemaske mit einer Maskenstruktur, die eine solche ... |
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