Cross linking agent for photoresist, and photoresist combination containing the same

本发明涉及用于光致抗蚀剂的交联剂,该光致抗蚀剂适用于使用KrF(248nm),ArF(193nm),电子束,离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明,优选的交联剂含有一种具有来源于(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸,甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的重复单元的共聚物。 The present invention relates to a cross-linker for use in a photoresist which is suitable for a photolithography process using KrF (248 r...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: CHONG CHAE-RYO,SOHN GVN-GYO,KIM MYONG-SOO
Format: Patent
Sprache:chi ; eng
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