Alkysulfonyloximes for high-resolution I-line hpotoresists of high sensitivity

本发明公开了式1肟烷基磺酸酯化合物作为光敏酸产生体在可用碱性介质显影且对波长为340-390纳米的射线敏感的化学放大性光致抗蚀剂以及对上述波长范围适用的相应组成的正型和负型光致抗蚀剂中的应用:其中R代表萘基,(2)或(3);R#-[0]代表R#-[1]-X基团或R#-[2];X代表直接连键,氧原子或硫原子;R#-[1]代表氢,C#-[1]-C#-[4]烷基或未取代的或被选自氯、溴、C#-[1]-C#-[4]烷基和C#-[1]-C#-[4]烷氧基的取代基所取代的苯基;R#-[2]代表氢或C#-[1]-C#-[4]烷基;且R#-[3]代表直链或支链C#-[1]-C#-[12]烷基,该烷基为未取代的...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: K. DIETLIKER, H. YAMATO, M. KUNZ
Format: Patent
Sprache:chi ; eng
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