MEMS sensor and method of forming a sensor device

A system and method for forming a sensor device includes defining an in-plane electrode in a device layer of a silicon on insulator (SOI) wafer, forming an out-of-plane electrode in a silicon cap layer located above an upper surface of the device layer, depositing a silicide-forming metal on a top s...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: FEYH ANDO
Format: Patent
Sprache:eng
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