MASK ASSEMBLY

A mask assembly suitable for use in a lithographic process, the mask assembly comprising a patterning device; and a pellicle frame configured to support a pellicle and mounted on the patterning device with a mount; wherein the mount is configured to suspend the pellicle frame relative to the pattern...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LYONS, JOSEPH H, KRAMER, RONALD HARM GUNTHER, BRUIJN, MARC, VAN DER MEULEN, FRITS, VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH KATRIEN, LOOPSTRA, ERIK ROELOF, BRULS, RICHARD JOSEPH, VAN DEN HEIJKANT, SANDER, BOGAART, ERIK WILLEM, KRUIZINGA, MATTHIAS, LANSBERGEN, ROBERT GABRIEL MARIA, LIPSON, MATTHEW, VAN DER GRAAF, SANDRA, VAN LOO, JEROME FRANCOIS SYLVAIN VIRGILE, AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL, DEKKERS, JEROEN, ROUX, STEPHEN, VAN DEN BOSCH, GERRIT, KAMALI, MOHAMMAD REZA, JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS, LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS, JANSSEN, PAUL, BROUNS, DERK
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A mask assembly suitable for use in a lithographic process, the mask assembly comprising a patterning device; and a pellicle frame configured to support a pellicle and mounted on the patterning device with a mount; wherein the mount is configured to suspend the pellicle frame relative to the patterning device such that there is a gap between the pellicle frame and the patterning device; and wherein the mount provides a releasably engageable attachment between the patterning device and the pellicle frame. Ensemble masque approprié pour être utilisé dans un procédé lithographique, l'ensemble masque comprenant un dispositif de modelage; et un cadre de pellicule conçu pour supporter une pellicule et monté sur le dispositif de modelage à l'aide d'une monture; la monture est conçue pour suspendre le cadre de pellicule par rapport au dispositif de modelage de telle sorte qu'il y a un espace entre le cadre de pellicule et le dispositif de modelage; et la monture assure une fixation pouvant entrer en prise amovible entre le dispositif de modelage et le cadre de pellicule.