APPARATUS AND PROCESS FOR SURFACE TREATMENT OF SUBSTRATE USING AN ACTIVATED REACTIVE GAS

An apparatus and process for treating at least a portion of the surface of a substrate is described herein. In one aspect, the apparatus a processing chamber comprising an inner volume, the substrate, and an exhaust manifold; an activated reactive gas supply source wherein a process gas comprising one or more reactive gases and optionally an additive gas is activated by one or more energy sources to provide the activated reactive gas; and a distribution conduit, which is in fluid communication with the inner volume and the supply source, comprising: a plurality of openings that direct the activated reactive gas into the inner volume, wherein the activated reactive gas contacts the surface and provides a spent activated reactive gas and/or volatile products that are withdrawn from the inner volume through the exhaust manifold. La présente invention concerne un appareil et un procédé de traitement d'au moins une partie de la surface d'un substrat. Selon un aspect, l'appareil comprend une chambre de traitement qui présente un volume interne, le substrat et un collecteur d'échappement; une source d'alimentation en gaz réactif activé dans laquelle un gaz de traitement comprenant un ou plusieurs gaz réactifs et éventuellement un gaz additionnel, est activé par une ou plusieurs sources d'énergie pour former le gaz réactif activé; et un conduit de distribution qui communique par le fluide avec le volume interne et la source d'alimentation, lequel comprend: une pluralité d'ouvertures qui dirigent le gaz réactif activé dans le volume interne, où le gaz réactif activé se trouve en contact avec la surface et produit un gaz réactif activé épuisé et/ou des produits volatiles qui sont évacués du volume interne par le collecteur d'échappement.