sistemas e métodos para atribuir restrições de grupo em um layout de circuito integrado

métodos e equipamentos para configurar restrições de grupo dos recursos das células para um processo de multi-padronização são fornecidos. o equipamento determina os recursos dentro de um layout de circuito, restrições de distância para pelo menos um dos recursos, restrições de grupo para os recurso...

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1. Verfasser: LIONEL RIVIERE-CAZAUX
Format: Patent
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creator LIONEL RIVIERE-CAZAUX
description métodos e equipamentos para configurar restrições de grupo dos recursos das células para um processo de multi-padronização são fornecidos. o equipamento determina os recursos dentro de um layout de circuito, restrições de distância para pelo menos um dos recursos, restrições de grupo para os recursos com base nas restrições de distância, as restrições de grupo definindo limites em grupos atribuíveis a cada um dos recursos. além disso, o equipamento recebe um layout de circuito integrado que inclui uma pluralidade de células contíguas. o equipamento então determina se as restrições de grupo de uma segunda célula conflitam com as restrições de grupo de uma primeira célula, a segunda célula adjacente à primeira célula e configura um subconjunto das restrições de grupo da segunda célula com base nas restrições de grupo da primeira célula e com base nas restrições de grupo da segunda célula que estão em conflito com as restrições de grupo da primeira célula. Methods and apparatuses for configuring group constraints of features of cells for a multi-patterning process are provided. The apparatus determines features within a circuit layout, distance constraints for at least one of the features, group constraints for the features based on the distance constraints, the group constraints defining limits on groups assignable to each of the features. In addition, the apparatus receives an integrated circuit layout including a plurality of abutting cells. The apparatus then determines whether group constraints of a second cell conflict with group constraints of a first cell, the second cell abutting with the first cell, and configures a subset of the group constraints of the second cell based on the group constraints of the first cell and based on the group constraints of the second cell that conflict with the group constraints of the first cell.
format Patent
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Methods and apparatuses for configuring group constraints of features of cells for a multi-patterning process are provided. The apparatus determines features within a circuit layout, distance constraints for at least one of the features, group constraints for the features based on the distance constraints, the group constraints defining limits on groups assignable to each of the features. In addition, the apparatus receives an integrated circuit layout including a plurality of abutting cells. The apparatus then determines whether group constraints of a second cell conflict with group constraints of a first cell, the second cell abutting with the first cell, and configures a subset of the group constraints of the second cell based on the group constraints of the first cell and based on the group constraints of the second cell that conflict with the group constraints of the first cell.</description><language>por</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CALCULATING ; CINEMATOGRAPHY ; COMPUTING ; COUNTING ; ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2018</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20180925&amp;DB=EPODOC&amp;CC=BR&amp;NR=112018003254A2$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20180925&amp;DB=EPODOC&amp;CC=BR&amp;NR=112018003254A2$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>LIONEL RIVIERE-CAZAUX</creatorcontrib><title>sistemas e métodos para atribuir restrições de grupo em um layout de circuito integrado</title><description>métodos e equipamentos para configurar restrições de grupo dos recursos das células para um processo de multi-padronização são fornecidos. o equipamento determina os recursos dentro de um layout de circuito, restrições de distância para pelo menos um dos recursos, restrições de grupo para os recursos com base nas restrições de distância, as restrições de grupo definindo limites em grupos atribuíveis a cada um dos recursos. além disso, o equipamento recebe um layout de circuito integrado que inclui uma pluralidade de células contíguas. o equipamento então determina se as restrições de grupo de uma segunda célula conflitam com as restrições de grupo de uma primeira célula, a segunda célula adjacente à primeira célula e configura um subconjunto das restrições de grupo da segunda célula com base nas restrições de grupo da primeira célula e com base nas restrições de grupo da segunda célula que estão em conflito com as restrições de grupo da primeira célula. 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