Magnetsystem, Sputtervorrichtung und Verfahren

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Magnetsystem (100) für eine Sputtervorrichtung (300) aufweisen: ein Gehäuse (406g), welches einen Gehäuseinnenraum (406h) aufweist; einen Magnetträger (102), welcher in dem Gehäuseinnenraum (406h) angeordnet und mittels des Gehäuses (406g), vorzugsweise...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	GROSSER GÖTZ, SANDER THORSTEN, SCHNEIDER KLAUS, HAUSWALD RALF
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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