METHOD FOR REMOVAL OF IMPURITIES IN CYCLIC SILOXANES USEFUL AS PRECURSORS FOR LOW DIELECTRIC CONSTANT THIN FILMS

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CHONGYING XU, SCOTT BATTLE, RAVI, K. LAXMAN, ALEXANDER S. BOROVIK, ZIYUN WANG, THOMAS H. BAUM, JAMES, T.Y. LIN
Format: Patent
Sprache:eng
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