DÜNNSCHICHT-VOLUMENWELLEN-RESONATOR (FBAR) MIT LUFTSPALT UND HERSTELLUNGSMETHODE DAFÜR

A resistance layer (112) is formed on a semiconductor substrate (111). A membrane layer is formed on the resistance layer over a recess (112') to form an air gap. One electrode is formed on the upper portion of the membrane layer. A piezoelectric layer is formed on the upper portions of the mem...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: JUN, CHAN-BONG, SEO, O-GWEON
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!