DÜNNSCHICHT-VOLUMENWELLEN-RESONATOR (FBAR) MIT LUFTSPALT UND HERSTELLUNGSMETHODE DAFÜR
A resistance layer (112) is formed on a semiconductor substrate (111). A membrane layer is formed on the resistance layer over a recess (112') to form an air gap. One electrode is formed on the upper portion of the membrane layer. A piezoelectric layer is formed on the upper portions of the mem...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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