Simulation of Resist Filling Properties under Condensable Gas Ambient in Ultraviolet Nanoimprint Lithography

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2012-06, Vol.51 (6S), p.6
Hauptverfasser:	Nagaoka, Yoshinori, Suzuki, Ryosuke, Hiroshima, Hiroshi, Nishikura, Naoki, Kawata, Hiroaki, Yamazaki, Noboru, Iwasaki, Takuya, Hirai, Yoshihiko
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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