A Three-Stage Inverter-Based Stacked Power Amplifier in 65 nm Complementary Metal Oxide Semiconductor Process
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Veröffentlicht in: | Japanese Journal of Applied Physics 2012-02, Vol.51 (2S), p.2 |
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Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng ; jpn |
Online-Zugang: | Volltext |
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