A Three-Stage Inverter-Based Stacked Power Amplifier in 65 nm Complementary Metal Oxide Semiconductor Process

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2012-02, Vol.51 (2S), p.2
Hauptverfasser: Kiumarsi, Hamid, Mizuochi, Yutaka, Ito, Hiroyuki, Ishihara, Noboru, Masu, Kazuya
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Online-Zugang:Volltext
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