Measurement of Negative Ions Generated on the Si Etched Surface

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2011-08, Vol.50 (8S2), p.8
Hauptverfasser:	Hayashi, Toshio, Murai, Sonomi, Sato, Fumihiko, Kono, Akihiro, Mizutani, Naoki, Suu, Koukou
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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