What We Learned and Used in the First Inductively Coupled Plasma for Plasma Processing and in Later Development

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2011-08, Vol.50 (8S1), p.8
1. Verfasser: Keller, John H.
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.7567/JJAP.50.08JA03