Electrical effect of CdSe layer thickness deposited on p- Si wafer: Electrical effect of CdSe layer thickness deposited on p- Si wafer

In this paper, the current-voltage characteristics of n-CdSe/p-Si heterostructures are analyzed using experimental data and electrical junction characteristics. To develop n-CdSe/p-Si heterojunctions, a wide band gap semiconducting layer of n-type CdSe thin film has been grown on a p-type Si (100) s...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Photonics letters of Poland 2023-12, Vol.15 (4), p.57-59
Hauptverfasser: Al Abbas, Jangeez, Altaan, Laith
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!