Effect of Fluoride-based Plasma Treatment on the Performance of AlGaN/GaN MISFET

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	ETRI journal 2016-04
Hauptverfasser:	Ahn, Ho-Kyun, Kim, Hae-Cheon, Kang, Dong-MIn, Kim, Sung-Il, Lee, Jong-Min, Lee, Sang-Heung, Min, Byoung-Gue, Yoon, Hyoung-Sup, Kim, Daong-Young, Lim, Jong-Won, Kwon, Yong-Hwan, Nam, Eun-Soo, Lee, Jung-Hee
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!