Magnetic Properties and Film Structure in Sputtered Amorphous TbCo Films

Dependence of magnetic properties on sputtering conditions is studied in amorphous TbCo films. Perpendicular magnetic anisotropy constant Ku depends strongly on Ar pressure and negative substrate bias voltage VB. When deposited at 10 mTorr Ar pressure without VB or with applying VB of-100 V, the fil...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	SHINKU 1986/04/20, Vol.29(4), pp.206-211
Hauptverfasser:	OHKOSHI, Masatoshi, HARADA, Mitsuaki, OHBAYASHI, Shigeki, HONDA, Shigeo, KUSUDA, Tetsuzo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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