Considerations for 0.25.MU.m optical lithography using phase shifting masks

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of photopolymer science and technology 1993, Vol.6 (4), p.657-667
1. Verfasser:	Vasudev, P. K.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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