Fabrication of sub-100nm Patterns using Near-field Mask Lithography with Ultra-thin Resist Process

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of photopolymer science and technology 2005, Vol.18 (3), p.435-441
Hauptverfasser:	Ito, Toshiki, Ogino, Masaya, Yamanaka, Tomohiro, Inao, Yasuhisa, Yamaguchi, Takako, Mizutani, Natsuhiko, Kuroda, Ryo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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