Preparation of ZrO2-MgO Thin Films by OMCVD

Thin films of ZrO2, MgO and magnesia stabilized zirconia (MSZ) were prepared in a reduced pressure (5-20 Torr) on glass and alumina substrates by organometallic chemical vapor deposition (OMCVD) using zirconium alkoxide, Zr(O-tBu)4, and magnesium acetylacetonate, Mg(C5H7O2)2, as the starting organom...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Ceramic Society of Japan 1989/10/01, Vol.97(1130), pp.1077-1081
Hauptverfasser:	ITOH, Hideaki, TANAKA, Takashi, SUZUKI, Yutaka, SUGIYAMA, Kohzoh
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Schlagworte:	Magnesia stabilized zirconia Magnesium acetylacetonate OMCVD Solid electrolyte thin film Zirconium alkoxide
Online-Zugang:	Volltext
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