Electromagnetic wave pattern detection using cepstral features in the manufacturing field

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	IEICE COMMUNICATIONS EXPRESS 2020-12, Vol.9 (12), p.650-655
Hauptverfasser:	Ohnishi, Ayano, Miyamoto, Michio, Takeuchi, Yoshio, Maeyama, Toshiyuki, Hasegawa, Akio, Yokoyama, Hiroyuki
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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