Fabrication of broadband anti-reflective layers by mask-free etching TiO 2 films

We present a simple way to make TiO anti-reflective layers on top of silicon substrates. Surfaces of TiO films have been modified by radio frequency plasma with CF as an etchant. Mask-free etching process on the polycrystalline films leads to the formation of random sub-wavelength textures. The refl...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Optics express 2018-11, Vol.26 (24), p.31917
Hauptverfasser:	Wang, Chunliang, Zhang, Xintong, Gao, Sili, Meng, Yanli, Fujishima, Akira
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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