The Effect of Precursor Ligands on the Deposition Characteristics of Ru Films by MOCVD

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Electrochemical and solid-state letters 2009, Vol.12 (10), p.D80
Hauptverfasser:	Kawano, Kazuhisa, Kosuge, Hiroaki, Oshima, Noriaki, Funakubo, Hiroshi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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