Atomic Layer Deposition of Hafnium Dioxide on TiN and Self-Assembled Monolayer Molecular Film

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2009, Vol.156 (7), p.H561
Hauptverfasser:	Chen, Zhong, Sarkar, Smita, Biswas, Nivedita, Misra, Veena
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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