Dual-Metal-Gate Work Function by Controlling Metal Gate Thickness and Composition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Electrochemical and solid-state letters 2008, Vol.11 (5), p.H124
Hauptverfasser: Hasan, Musarrat, Park, Hokyong, Lee, Joon-Myoung, Hwang, Hyunsang
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1099-0062
DOI:10.1149/1.2862791