Interpretation of ellipsometry measurements taken from annealed heavily arsenic-implanted silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1993-09, Vol.140 (9), p.2710-2714
Hauptverfasser: AJURIA, S. A, TOMPKINS, H. G, GROVE, C. L, CARREJO, J. P
Format: Artikel
Sprache:eng
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