Restrained Diffusion of Boron and Phosphorus in Silicon under HCl ‐ Added Oxygen Atmosphere

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1976-09, Vol.123 (9), p.1416-1417
Hauptverfasser:	Nabeta, Yasumasa, Uno, Tadashi, Kubo, Shuji, Tsukamoto, Hirokazu
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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