A mathematical model for LPCVD in a single wafer reactor

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1989-11, Vol.136 (11), p.3423-3433
Hauptverfasser:	KLEIJN, C. R, VAN DER MEER, T. H, HOOGENDOORN, C. J
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Surface and interface dynamics and vibrations Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
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