Oxygen precipitation in heavily doped silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1990-02, Vol.137 (2), p.647-652
Hauptverfasser: BAINS, S. K, GRIFFITHS, D. P, WILKES, J. G, SERIES, R. W, BARRACLOUGH, K. G
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.2086524