Mechanisms of deposition of SiO2 from TEOS and related organosilicon compounds and ozone

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1995-07, Vol.142 (7), p.2332-2340
Hauptverfasser:	DOBKIN, D. M, MOKHTARI, S, SCHMIDT, M, PANT, A, ROBINSON, L, SHERMAN, A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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