Atomic Layer Deposition and Characterization of HfO[sub 2] Films on Noble Metal Film Substrates

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2005, Vol.152 (7), p.F75
Hauptverfasser:	Kukli, Kaupo, Aaltonen, Titta, Aarik, Jaan, Lu, Jun, Ritala, Mikko, Ferrari, Sandro, Hårsta, Anders, Leskelä, Markku
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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