In Situ Ellipsometry Analysis on Formation Process of Al[sub 2]O[sub 3]-Ta[sub 2]O[sub 5] Films in Ion Beam Sputter Deposition

In Situ Ellipsometry Analysis on Formation Process of Al[sub 2]O[sub 3]-Ta[sub 2]O[sub 5] Films in Ion Beam Sputter Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2005, Vol.152 (4), p.B133
Hauptverfasser: Kaneko, Tetsuji, Akao, Noboru, Hara, Nobuyoshi, Sugimoto, Katsuhisa
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
DOI:10.1149/1.1861173