Barrier properties of titanium nitride films grown by low temperature chemical vapor deposition from titanium tetraiodide

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1997-03, Vol.144 (3), p.1002-1008
Hauptverfasser:	FALTERMEIER, C, GOLDBERG, C, JONES, M, UPHAM, A, MANGER, D, PETERSON, G, LAU, J, KALOYEROS, A. E, ARKLES, B, PARANJPE, A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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