Atomic Layer Deposition of AlO[sub x] for Thin Film Head Gap Applications

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2001, Vol.148 (9), p.G465
Hauptverfasser: Paranjpe, Ajit, Gopinath, Sanjay, Omstead, Tom, Bubber, Randhir
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
DOI:10.1149/1.1385822