Improved Stress Reliability of Analog TiHfO Metal–Insulator–Metal Capacitors Using High-Work-Function Electrode

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2007-11, Vol.46 (11R), p.7300
Hauptverfasser:	Cheng, Chun-Hu, Chiang, Kuo-Cheng, Pan, Han-Chang, Hsiao, Chien-Nan, Chou, Chang-Pin, McAlister, Sean P., Chin, Albert
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!