Barrier Characteristics of ZrN Films Deposited by Remote Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Using Tetrakis(diethylamino)zirconium Precursor

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2007-07, Vol.46 (7R), p.4085
Hauptverfasser:	Cho, Seungchan, Lee, Keunwoo, Song, Pungkeun, Jeon, Hyeongtag, Kim, Yangdo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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