Observation of Microstructures in the Longitudinal Direction of Very Narrow Cu Interconnects

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2006-08, Vol.45 (8L), p.L852
Hauptverfasser: Khoo, Khyoupin, Onuki, Jin, Nagano, Takahiro, Chonan, Yasunori, Akahoshi, Haruo, Tobita, Toshimi, Chiba, Masahiro, Saito, Tatsuyuki, Ishikawa, Kensuke
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.45.L852