Highly Moisture-Resistive SiN x Films Prepared by Catalytic Chemical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2004-10, Vol.43 (No. 10B), p.L1362-L1364
Hauptverfasser:	Heya, Akira, Niki, Toshikazu, Yonezawa, Yasuto, Minamikawa, Toshiharu, Muroi, Susumu, Izumi, Akira, Masuda, Atsushi, Umemoto, Hironobu, Matsumura, Hideki
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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